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Breakthrough Research Investment Events
CEA-Leti 提议利用其 LUMIK 技术为新一代传感器进行原型设计。
CEA-Leti 2026-11-20
在 GITEX 2026 上展出
Minalogic · 07-21 08:39 2026-12-07
征集申请：CES拉斯维加斯2027携手Choose Paris Region
Systematic Paris-Region · 06-19 10:22 2027-01-06
征集申请：CES 拉斯维加斯 2027 携手 Choose Paris Region
Systematic Paris-Region · 06-19 08:22 2027-01-06
在赫尔辛基与欧洲 ECS 社区相聚：EFECS 2026 报名现已开放！
AENEAS · 09-24 15:02 2026-12-02
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EUV光刻：据称中国在ASML方面落后20年

Lithographie EUV : la Chine aurait 20 ans de retard sur ASML

UBS称，短期内中国难以在至少十年内追赶ASML在EUV光刻技术上的领先优势，其当前技术水平相当于ASML约2004年的水平；但中国可能在2到5年内缩小其在DUV设备方面的差距。该判断凸显ASML在全球EUV光刻设备领域的关键地位及对中国半导体制造能力的长期影响。

VIPress.net 半导体 ASML UBS
2026-09-09 15:16